EUV이란?

사전적 정의 (Dictionary Definition)

EUV(Extreme Ultraviolet, 극자외선)는 반도체 노광(Lithography) 공정에서 실리콘 웨이퍼에 회로 패턴을 그리기 위해 사용되는 13.5nm 파장의 광원입니다. 기존 공정에 활용되던 불화아르곤(ArF) 광원보다 파장의 길이가 약 14분의 1 수준으로 짧아, 7나노미터(nm) 이하의 초미세 회로 패턴을 구현하는 데 필수적인 차세대 기술입니다.

실무 사용 예시 (Practical Use Case)

글로벌 파운드리 기업들은 5nm 및 2nm 공정 등 초미세 반도체 양산을 위해 EUV 노광 장비를 도입하고 있습니다. 이를 통해 회로 선폭을 좁혀 칩의 집적도를 높이고 전력 효율과 연산 능력을 극대화한 고성능 프로세서를 생산합니다.

관련 단어 (Related Words)

• ASML
• 노광 공정 (Lithography)
• 수율 (Yield)